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반도체입문교육(외부공개모집)
2018.2.26-2.28
15명
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB 등
일반-30만원, 학생-20만원
파일없음

반도체입문교육(외부공개모집)

 

 

교육개요

- 일 시 : 2018년 2월 26일(월) ~ 2월 28(수)/ 3, 24시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB 등

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 15(2개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적: 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

 

 교육내용: 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

일자

시간

1

2

교육내용

장비명

교육내용

장비명

2/26

(8H)

09:00~10:00

반도체 clean room 안전교육

10:00~11:00

11:00~12:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Etch & Cleaning 단위공정 이론

15:00~16:00

16:00~17:00

Metal 단위공정 이론

17:00~18:00

2/27

(8H)

09:00~10:00

Dielectric 단위공정 이론

10:00~11:00

11:00~12:00

Photolithography

Mask aligner(MA6)

Oxidation

Furnace

12:00~12:30

12:30~13:00

반도체 전공정 시청각교육 

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Etching

wet station

Photolithography

Mask aligner(MA6)

15:00~16:00

16:00~17:00

Metalization

Evaporator

Etching

wet station

17:00~17:30

17:30~18:00

반도체 전공정 시청각 교육

2/28

(8H)

09:00~10:00

반도체 소자 특성 분석

10:00~11:00

11:00~12:00

Measurement

Probe station

반도체 후공정 시청각교육

12:00~13:00

점심식사

13:00~14:00

Oxidation

Furnace

Measurement

Probe station

14:00~14:30

Metalization

Evaporator

14:30~15:30

반도체 후공정 시청각 교육

15:30~16:30

Process Integration

16:30~17:30

17:30~18:00

총평 및 수료식

 

) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.





 )

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-630257(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 90% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
반도체입문교육(FAB 신규입실자 한정)
2018.2.21-2.23
24명
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB 등
일반-30만원, 학생-20만원
파일없음

반도체입문교육(입실자교육)

 

 

교육개요

- 일 시 : 20182 21일(수) ~ 223(금)/ 3, 24시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB

- 교육대상 : 반도체 FAB 신규입실자(2018년 상반기 FAB 입실 신규 신청자)

        ※ FAB 입실 신규 신청자를 제외한 외부 신청자의 경우 사전 협의 없이 신청 취소될 수 있음

- 모집인원 : 20명 내외 (2개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적: 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

 

 교육내용: 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습



일자

시간

1

2

교육내용

장비명

교육내용

장비명

2/21

(8H)

09:00~10:00

반도체 clean room 안전교육

10:00~11:00

11:00~12:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Etch & Cleaning 단위공정 이론

15:00~16:00

16:00~17:00

Metal 단위공정 이론

17:00~18:00

2/22

(8H)

09:00~10:00

Dielectric 단위공정 이론

10:00~11:00

11:00~12:00

Photolithography

Mask aligner(MA6)

Oxidation

Furnace

12:00~12:30

12:30~13:00

반도체 전공정 시청각교육 -모헌종 선임

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Etching

wet station

Photolithography

Mask aligner(MA6)

15:00~16:00

16:00~17:00

Metalization

Evaporator

Etching

wet station

17:00~17:30

17:30~18:00

반도체 전공정 시청각 교육

2/23

(8H)

09:00~10:00

반도체 소자 특성 분석

10:00~11:00

11:00~12:00

Measurement

Probe station

반도체 후공정 시청각교육

12:00~13:00

점심식사

13:00~14:00

Oxidation

Furnace

Measurement

Probe station

14:00~14:30

Metalization

Evaporator

14:30~15:30

반도체 후공정 시청각 교육

15:30~16:30

Process Integration

16:30~17:30

17:30~18:00

총평 및 수료식

 

) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.


▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-630257(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 90% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
2017 디스플레이 소자 기초이론 및 공정실습 교육
2017. 6. 21(수) ~ 6. 23(금)
20명
경북대 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab
<학생>200,000원, <일반>300,000원
파일없음
▶ 교육대상 : 디스플레이 관련 기업 재직자 및 취업, 전직 희망자
▶ 교육목표 : 디스플레이 기초이론 및 최신 기술 동향에 관한 이론 강의 제공, OLED 소자 제조공정 실습을 통한 공정 환경 및 기초 원리 이해, 기초 실무 기술력 향상


<<교육 세부 내용>>


1일차 : 6월 21일(수)

▣ 10:00~13:00 <디스플레이 소자 기초이론 1>
- 디스플레이 산업 및 기술 동향, 핵심 공정 기술(TFT-LCD 중심) (3시간)

▣ 14:00~17:00 <디스플레이 소자 기초이론 2>
- OLED 기술 이론, 차세대 디스플레이 개발 동향(Quantum dot LED 등) (3시간)


2일차 : 6월 22일(목)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(OLED) 1>
- 고분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습, 고분자 OLED 증착 및 측정(6시간)


3일차 : 6월 23일(금)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(Quantum dot LED) 2>
- Quantum dot LED를 위한 ITO Patterning 실습, Quantum dot LED 증착 및 측정(6시간)

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-630257 (예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는 http://www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
반도체입문교육
2017.8.16-8.18
20명
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB 등
일반-30만원, 학생-20만원
파일없음

반도체입문교육

 

 

교육개요

- 일 시 : 2017년 8월 16일(수) ~ 8월 18(금)/ 3, 24시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB 등

- 교육대상 : 반도체 FAB 신규입실자(IT3호관 지하FAB 및 반도체융합연구동 FAB 신규입실자), 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 20명 내외 (2개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적: 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

 

 교육내용: 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

일자

시간

1

2

교육내용

장비명

교육내용

장비명

8/16

(8H)

09:00~10:00

반도체 clean room 안전교육 - 모헌종 선임

10:00~11:00

11:00~12:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해 - 모헌종 선임

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Etch & Cleaning 단위공정 이론 - 문상연 주임

15:00~16:00

16:00~17:00

Metal 단위공정 이론 - 문상연 주임

17:00~18:00

8/17

(8H)

09:00~10:00

Dielectric 단위공정 이론 - 모헌종 선임

10:00~11:00

11:00~12:00

Photolithography

-이재용 연구원

Mask aligner(MA6)

Oxidation

-문상연 주임

Furnace

12:00~12:30

12:30~13:00

반도체 전공정 시청각교육 -모헌종 선임

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Etching

-문상연 주임

wet station

Photolithography

-이재용 연구원

Mask aligner(MA6)

15:00~16:00

16:00~17:00

Metalization

-권순열 연구원

Evaporator

Etching

-문상연 주임

wet station

17:00~17:30

17:30~18:00

반도체 전공정 시청각 교육모헌종 선임

8/18

(8H)

09:00~10:00

반도체 소자 특성 분석 - 이준혁 연구원

10:00~11:00

11:00~12:00

Measurement

- 이준혁 연구원

Probe station

반도체 후공정 시청각교육모헌종 선임

12:00~13:00

점심식사

13:00~14:00

Oxidation

- 문상연 연구원

Furnace

Measurement

- 이준혁 연구원

Probe station

14:00~14:30

Metalization

-권순열 연구원

Evaporator

14:30~15:30

반도체 후공정 시청각 교육- 모헌종선임

15:30~16:30

Process Integration – 윤영준 연구원

16:30~17:30

17:30~18:00

총평 및 수료식

 

) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.





 )

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-630257(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 90% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
반도체입문교육
2016.8.24-8.26
26명
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB, 반도체융합연구동
일반-30만원, 학생-20만원
파일없음

반도체입문교육

 

 

교육개요

- 일 시 : 2016년 824일(수) ~ 826일(금)/ 3, 24시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB, 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 FAB 신규입실자(IT3호관 지하FAB 및 반도체융합연구동 FAB 신규입실자), 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 25명 내외 (2개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적: 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

 

 교육내용: 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

일자

시간

교육내용

교육내용

1일차(8h)

24

09:00~10:00

공정실 안전교육 - 모헌종 선임연구원 (2H)

10:00~11:00

11:00~12:00

반도체란 무엇인가 이윤수교수님

(반도체 물질의 특성 및 기능)

12:00~13:00

13:00~14:00

점심시간

14:00~15:00

Dielectric 단위공정 이론 교육 모헌종 선임연구원(2H)

15:00~16:00

16:00~17:00

Photo 단위공정 이론교육 - 정동건 연구원 (2H)

17:00~18:00

2일차(8h)

25

09:00~10:00

Etch & cleaning 단위공정 이론교육 모헌종 선임연구원(2H)

10:00~11:00

11:00~12:00

lithography 장비운용교육 이준엽 연구원,이길호 연구원(2H)

산화막 형성장비 운용교육 모헌종 선임연구원 (1.5H)

12:00~12:30

12:30~13:00

반도체 전공정 시청각 교육 (0.5H) - 모헌종 선임연구원

13:00~14:00

점심시간

14:00~15:00

식각장비 운용교육 박원상 연구원 (2H)

lithography 장비운용교육 이준엽 연구원, 이길호 연구원(2H)

15:00~16:00

16:00~17:00

Metal 단위공정 이론 교육 - 문상연 주임연구원(2H)

17:00~18:00

3일차(8h)

26

09:00~10:00

반도체 소자 특성 분석 이준혁 연구원 (2H)

10:00~11:00

11:00~12:00

반도체 소자 특성 측정 - 이준혁 연구원(1H)

반도체 후공정 시청각교육 - 모헌종 선임연구원

12:00~13:00

점심시간

13:00~14:00

반도체 전공정 시청각 교육 - 모헌종 선임연구원

반도체 소자 특성 측정 - 이준혁 연구원(1H)

14:00~15:00

금속막 형성장비 운용교육 - 권순열 연구원 (1.5H)

식각장비 운용교육 박원상 연구원 (2H)

15:00~15:30

15:30~16:00

반도체 후공정 시청각 교육 (0.5H) - 모헌종 선임연구원

16:00~17:00

산화막 형성장비 운용교육 문상연 주임연구원 (1.5H)

금속막 형성장비 운용교육 - 권순열 연구원 (1.5H)

17:00~17:30

17:30~18:00

총평 및 수료

) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
2016 디스플레이 소자 기초이론 및 공정실습 교육
2016. 6. 22(수) ~ 6. 24(금)
20명
경북대 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab
<학생>200,000원, <일반>300,000원
파일없음
▶ 교육대상 : 디스플레이 관련 기업 재직자 및 취업, 전직 희망자

▶ 교육목표 : 디스플레이 기초이론 및 최신 기술 동향에 관한 이론 강의 제공, OLED 소자 제조공정 실습을 통한 공정 환경 및 기초 원리 이해, 기초 실무 기술력 향상


<<교육 세부 내용>>


1일차 : 6월 22일(수)

▣ 10:00~13:00 <디스플레이 소자 기초이론 1>
- 디스플레이 산업 및 기술 동향, 핵심 공정 기술(TFT-LCD 중심) (3시간)

▣ 14:00~17:00 <디스플레이 소자 기초이론 2>
- OLED 기술 이론, 차세대 디스플레이 개발 동향(Quantum dot LED 등) (3시간)


2일차 : 6월 23일(목)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(OLED) 1>
- 고분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습, 고분자 OLED 증착 및 측정(6시간)


3일차 : 6월 24일(금)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(Quantum dot LED) 2>
- Quantum dot LED를 위한 ITO Patterning 실습, Quantum dot LED 증착 및 측정(6시간)

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는 http://www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
반도체입문교육(FAB 신규입실자 한정)
2016.2.24-2.26
26
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB, 반도체융합연구동
일반-30만원, 학생-20만원
공지 반도체입문교육(20160224-26).hwp / 

반도체입문교육(입실자교육)

 

 

교육개요

- 일 시 : 2016년 224일(수) ~ 226일(금)/ 3, 24시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB, 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 FAB 신규입실자(IT3호관 지하FAB 및 반도체융합연구동 FAB 신규입실자)

- 모집인원 : 20명 내외 (2개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적: 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

 

 교육내용: 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

교육내용

장비명

장소

2/24

(8H)

09:00~11:00

Process integration

103

11:00~13:00

반도체 clean room 안전교육

103

13:00~14:00

점심식사

13:30~15:30

Dielectric 단위공정 이론 교육

103

15:30~17:30

etch & cleaning 단위공정 이론

103

2/25

(8H)

09:00~11:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해

103

11:00~13:00

식각장비 운용교육

wet station

IT3호관 FAB

lithography 장비 운용교육

Mask aligner(MA6)

IT3호관 FAB

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

반도체 소자 특성 분석

103

16:00~18:00

lithography 장비 운용교육

Mask aligner(MA6)

IT3호관 FAB

식각장비 운용교육

wet station

IT3호관 FAB

2/26

(8H)

09:00~11:00

Metal 단위공정 이론

103

11:00~12:30

반도체 소자 특성 측정

Probe station

IT3호관 측정실

금속막형성 장비운용교육

Evaporator

IT3호관 205

12:30~13:30

점심식사

13:30~15:00

산화막형성 장비운용교육

Furnace,

PECVD

IT3호관 측정실

반도체 소자 특성 측정

Probe station

IT3호관 측정실

15:00~16:30

금속막형성 장비운용교육

Evaporator

IT3호관 205

산화막형성 장비운용교육

Furnace,

PECVD

IT3호관 측정실

16:30~18:00

이온주입 기술의 이해

103

) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
플라즈마 기술 및 활용교육
2015.12.9~12.10
20명
경북대학교 IT3호관 103호, 지하FAB, 반도체융합연구동
재직자 무료
플라즈마 교육 공고문.hwp / 

플라즈마 기술 및 활용 교육

 

 

교육개요

- 일 시 : 2015129() ~ 1210()/ 2, 14시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 1호관 916호, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB, 반도체융합연구동

- 교육대상 : 관련 산업분야 기업체 및 연구소 재직자

- 모집인원 : 20명 내외 (1개조 10명 내외로 2조 운영)

- 교 육 비 : 무료 (중식 및 교재 제공) / 일자별 별도 신청가능

 

목 적 : 반도체뿐만 아니라 기타 다양한 IT 산업 분야에 적용될 수 있어 차세대 주력 분야로 활발한 기술 개발이 이루어지고 있는 플라즈마에 관한 최신 기술 개발동향, 기초 이론 및 장비 활용 교육을 통해 기업의 연구 개발 능력 촉진하고자 함.

교육내용 : 플라즈마 이론 교육 및 반도체장비를 활용한 플라즈마 운용 기술 교육

교육일정

교육일정

일자

시간

교육내용

강사

비고

1조

2조

1일차
(7H)

10:00~11:00

Fab 출입을 위한 안전교육

모헌종선임연구원
(경북대ISFT)

이론

11:00~12:00

플라즈마 이론교육(2h)

김재영교수

12:00~13:00

(대구경북과학기술원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

플라즈마 Source Technology

표재확대표
(㈜에이피디)

15:00~16:00

16:00~17:00

플라즈마 장비 RF 기술

17:00~18:00

2일차
(7H)

10:00~11:00

플라즈마 RF 장비 및 RF 임피던스 매처 기술

플라즈마 Deposition, Etcher, 표면처리 메커니즘

모헌종선임연구원 외
(경북대ISFT)

실습

11:00~12:00

(활용장비 : Cluster PECVD, 

12:00~13:00

점심식사

ICP etcher,

13:00~14:00

플라즈마 Deposition, Etcher, 표면처리 메커니즘

플라즈마 유지 및 관리 관련 기술

Delectric Sputter,

14:00~15:00

Metal Sputter 등

15:00~16:00

플라즈마 유지 및 관리 관련 기술

플라즈마 RF 장비 및 RF 임피던스 매처 기술

 

16:00~17:00

 

17:00~18:00

총평 및 수료식(1h)

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.

 

■ 관련 문의처 : 권민정주임연구원

                      전화: 053-950-7594 메일: dtec02@ee.knu.ac.kr

 
 
반도체입문교육(FAB 신규입실자 한정)
2015.8.24-8.26
10명
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB, 반도체융합연구동
일반-30만원, 학생-20만원
반도체입문과정교육(8.26~8.28) 입실자.hwp / 

반도체입문교육(입실자교육)

 

 

교육개요

- 일 시 : 2015824일() ~ 826일()/ 3, 22시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB, 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 FAB 신규입실자(IT3호관 지하FAB 및 반도체융합연구동 FAB 신규입실자)

- 모집인원 : 10명 내외 (1개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적: 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

 

 교육내용: 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

 

교육일정

 

 

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

강사

교육내용

장비명

장소

강사

8/24

(7H)

10:00~11:00

Process integration

IT3호관 103

이창주연구원

11:00~12:00

12:00~13:00

반도체전공정 시청각교육

IT3호관 103

모헌종연구원

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

etch & cleaning 단위공정 이론

IT3호관 103

모헌종연구원

15:00~16:00

16:00~17:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해

IT3호관 103

정동건연구원

17:00~18:00

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

강사

교육내용

장비명

장소

강사

8/25

(8H)

09:00~10:00

clean room 안전교육

IT3호관 103

모헌종연구원

10:00~11:00

11:00~12:00

식각장비 운용교육

wet station

IT3호관 FAB

이준혁연구원

lithography 장비 운용교육

Mask aligner(MA6)

IT3호관 FAB

정동건연구원

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

배선공정 이론

IT3호관 103

조영우

15:00~16:00

16:00~17:00

산화막형성 장비운용교육

Furnace,

PECVD

융합동

방순재연구원

금속막형성장비운용교육

Metal Sputter

융합동

이창호연구원

17:00~18:00

금속막형성 장비운용교육

Metal Sputter

융합동

이창호연구원

산화막형성장비운용교육

Furnace,

PECVD

융합동

방순재연구원

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

강사

교육내용

장비명

장소

강사

8/26

(7H)

09:00~10:00

반도체 소자 특성 분석

IT3호관 103

김도균연구원

10:00~11:00

11:00~12:00

lithography 장비 운용교육

Mask aligner(MA6)

IT3호관 FAB

정동건연구원

식각장비 운용교육

wet station

IT3호관 FAB

이준혁연구원

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

이온주입기술의 이해

IT3호관 103

정동건연구원

반도체 소자 특성 측정

Probe station

IT3호관 측정실

이준혁연구원

15:00~16:00

반도체 소자 특성 측정

Probe station

IT3호관 측정실

이준혁연구원

이온주입기술의 이해

IT3호관 103

정동건연구원

16:00~17:00

반도체 후공정 시청각 교육 및 패키징

IT3호관 103

이희호연구원

 

) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec02@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7594)로 연락 바랍니다.
 
 
반도체입문교육
2015.8.19-8.21
20명
IT3호관 103호, IT3호관 지하FAB, 반도체융합연구동
일반-30만원, 학생-20만원
반도체입문과정교육(8.19-8.21).hwp / 

반도체입문교육

 

 

교육개요

- 일 시 : 2015819() ~ 821()/ 3, 22시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 IT대학 3호관 지하 FAB, 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생, 청정실 입실 희망자

- 모집인원 : 20명 (1개조 10명 내외로 2조 운영)

  

목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본이론 및 장비 운용 실습 교육

 

교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

교육일정

 

 

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

강사

교육내용

장비명

장소

강사

8/19

(7H)

10:00~11:00

Process integration

IT3호관 103

이용수 교수

11:00~12:00

12:00~13:00

반도체전공정 시청각교육

IT3호관 103

모헌종연구원

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

etch & cleaning 단위공정 이론

IT3호관 103

모헌종연구원

15:00~16:00

16:00~17:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해

IT3호관 103

정동건연구원

17:00~18:00

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

강사

교육내용

장비명

장소

강사

8/20

(8H)

09:00~10:00

clean room 안전교육

IT3호관 103

모헌종연구원

10:00~11:00

11:00~12:00

식각장비 운용교육

wet station

IT3호관 FAB

이준혁연구원

lithography 장비 운용교육

Mask aligner(MA6)

IT3호관 FAB

정동건연구원

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

배선공정 이론

IT3호관 103

조영우

15:00~16:00

16:00~17:00

산화막형성 장비운용교육

Furnace,

PECVD

융합동

방순재연구원

금속막형성장비운용교육

Metal Sputter

융합동

이창호연구원

17:00~18:00

금속막형성 장비운용교육

Metal Sputter

융합동

이창호연구원

산화막형성장비운용교육

Furnace,

PECVD

융합동

방순재연구원

 

시간

1

2

교육내용

장비명

장소

강사

교육내용

장비명

장소

강사

8/21

(7H)

09:00~10:00

반도체 소자 특성 분석

IT3호관 103

김도균연구원

10:00~11:00

11:00~12:00

lithography 장비 운용교육

Mask aligner(MA6)

IT3호관 FAB

정동건연구원

식각장비 운용교육

wet station

IT3호관 FAB

이준혁연구원

12:00~13:00

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

이온주입기술의 이해

IT3호관 103

정동건연구원

반도체 소자 특성 측정

Probe station

IT3호관 측정실

이준혁연구원

15:00~16:00

반도체 소자 특성 측정

Probe station

IT3호관 측정실

이준혁연구원

이온주입기술의 이해

IT3호관 103

정동건연구원

16:00~17:00

반도체 후공정 시청각 교육 및 패키징

IT3호관 103

이희호연구원

 

▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.

▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec02@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7594)로 연락 바랍니다.

 
 
2015 디스플레이 소자 기초이론 및 공정실습 교육
2015. 7. 15(수) ~ 7. 17(금)
20명
경북대 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab
<학생>200,000원, <일반>300,000원
▶ 교육대상 : 디스플레이 관련 기업 재직자 및 취업, 전직 희망자

▶ 교육목표 : 디스플레이 기초이론 및 최신 기술 동향에 관한 이론 강의 제공, OLED 소자 제조공정 실습을 통한 공정 환경 및 기초 원리 이해, 기초 실무 기술력 향상


<<교육 세부 내용>>


1일차 : 7월 15일(수)

▣ 10:00~13:00 <디스플레이 소자 기초이론 1>
- 디스플레이 산업 및 기술 동향, 핵심 공정 기술(TFT-LCD 중심) (3시간)

▣ 14:00~17:00 <디스플레이 소자 기초이론 2>
- OLED 기술 이론, 차세대 디스플레이 개발 동향(Quantum dot LED 등) (3시간)


2일차 : 7월 16일(목)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(OLED) 1>
- 고분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습, 고분자 OLED 증착 및 측정(6시간)


3일차 : 7월 17일(금)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(Quantum dot LED) 2>
- Quantum dot LED를 위한 ITO Patterning 실습, Quantum dot LED 증착 및 측정(6시간)


▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는 http://www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
반도체입문교육(Fab 입실자)
2015.2.25-2.27
30명
IT대학 3호관 103호, 반도체융합연구동
일반-30만원, 학생-20만원

반도체입문교육 (Fab입실자한정)

 

 

교육개요

- 일 시 : 2015225() ~ 227()/ 3, 21시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 - 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 FAB 입실자(IT3호관 지하FAB 및 반도체융합연구동 FAB 입실자)

- 모집인원 : 25명 내외 (2개조 운영)

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원

 

목 적 : 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육

■ 교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습

교육일정


시간

1조

2조

장소

1일차
(2월25일)
5H

13:00~14:00

청정및 안전교육 - 모헌종 주임연구원

IT3호관 103호

14:00~15:00

15:00~16:00

반도체전공정 시청각교육

16:00~17:00

Process intergration - 김도균 연구원

17:00~18:00

시간

1조

2조

장소

2일차
(2월26일)
8H

09:00~10:00

PDS 및 Ion Implantation 공정 기술 이해 - 정동건 연구원

IT3호관 103호

10:00~11:00

11:00~12:00

산화및증착공정이론-이상원연구원

측정장비 이론 및 실습 - 김도균연구원-103호

반도체융합연구동

12:00~13:00

산화및증착공정실습-김창희연구원

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

식각공정 이론 및 실습 - 문상연 주임연구원

산화및증착공정이론-이상원연구원

15:00~16:00

산화및증착공정실습-김창희연구원

16:00~17:00

배선공정이론(Sputter)-조영우연구원

식각공정 이론 및 실습 - 문상연 주임연구원

17:00~18:00

배선공정실습(Sputter)-이창호연구원

시간

1조

2조

장소

3일차
(2월27일)
8H

09:00~10:00

lithography를 이용한 패턴 형성 기술 이해 - 모헌종 연구원

반도체융합연구동

10:00~11:00

사진공정 이론 및 실습 - 모헌종연구원

배선공정이론(Sputter)-조영우연구원

11:00~12:00

배선공정실습(Sputter)-이창호연구원

12:00~13:00

측정장비 이론 및 실습 - 김도균연구원-103호

사진공정 이론 및 실습 - 모헌종연구원

13:00~14:00

14:00~15:00

점심식사

 

15:00~16:00

ALD 공정 - 강희성연구원

IT3호관 103호

16:00~17:00

17:00~18:00

총평 및 수료식


    

* 25일(수) 교육은 오후 1시 시작합니다.

* 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 10인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

* 교육 80% 이상 참석시 수료증이 발급됩니다.

* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261 (예금주:경북대학교 반도체융합기술연구원)

* 교육비 카드 결제 불가능, 계산서 발급가능

* 문의처 : 053-950-7594 권민정 주무관(dtec02@ee.knu.ac.kr)
 
 
반도체기초이론및실습교육
2015.2.23-2.24
15명
IT3호관 103호, 반도체융합연구동
일반-25만원, 학생-20만원
반도체입문과정(안)(3).hwp /  반도체입문과정(안)(4).hwp / 
     반도체기초이론및실습교육
 
 
 
교육개요
- 일 시 : 2015223() ~ 224()/ 2, 16시간과정
- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103, 실습 - 반도체융합연구동
- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생
- 모집인원 : 15명 내외 (1개조 7명 내외로 2조 운영)
- 교 육 비 : 일반/25만원, 학생/20만원
 
목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본이론 및 실습교육
■ 교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition ) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습
시간
1
2
공정명 - 장비명
공정명 - 장비명
 
1일차
(223)
(8H)
09:00~11:00
(2H)
청정 및 안전교육 모헌종 주임연구원
11:00 ~ 12:30
(1.5H)
산화막 형성 이론 김도균 연구원
13:30 ~ 15:00
(1.5H)
lithography를 이용한 패턴 형성 기술 이해 - 모헌종 연구원
15:00 ~ 16:30
(1.5H)
산화막 식각 이해 - 문상연 주임연구원
16:30 ~ 18:00
(1.5H)
PDS Ion Implantation 공정 기술 이해 - 정동건 연구원
 
2일차
(224)
(8H)
09:00~09:30
Photo 공정실습 - 모헌종주임연구원
측정이론 및 실습 - 이준혁연구원
09:30~10:00
10:00~10:30
10:30~11:00
Etch 공정실습 - 문상연주임연구원
11:00~11:30
Photo 공정실습 - 모헌종주임연구원
11:30~12:00
12:00~12:30
점심식사
12:30~13:00
점심식사
13:00~13:30
플라즈마를 이용한 표면증착 실습(PECVD) - 김창희연구원
13:30~14:00
Etch 공정실습 - 문상연주임연구원
14:00~14:30
14:30~15:00
배선공정실습(Sputter) - 이창호연구원
15:00~15:30
플라즈마를 이용한 표면증착 실습(PECVD) - 김창희연구원
15:30~16:00
16:00~16:30
측정이론 및 실습 - 이준혁연구원
16:30~17:00
배선공정실습(Sputter) - 이창호연구원
17:00~17:30
17:30~18:00
                    주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.
 
 
 
* 교육 80% 이상 참석시 수료증이 발급됩니다.

* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261 (예금주:경북대학교 반도체융합기술연구원)

* 교육비 카드 결제 불가능, 계산서 발급가능

* 문의처 : 053-950-7594 권민정 주무관(dtec02@ee.knu.ac.kr)

 
 
투명 Flexible 디스플레이 기술 및 OLED 제작실습 교육과정
2014년 10월 14일(화) ~ 15일(수), 10:00~17:00
20명
경북대학교 IT대학 3호관 103호 및 지하공정실
무료
◦ 과 정 명 : 투명 Flexible 디스플레이 기술 및 OLED 제작실습  교육과정
◦ 교육일자 : 2014년 10월 14일(화) ~ 15(수)
◦ 교육시간 : 10:00~17:00
◦ 장 소 : 경북대학교 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab 등
◦ 교육대상 : 20명
- 디스플레이 관련 기업체 재직자
- 디스플레이 관련 연구 수행자 등
- 대구, 경북 지역 소재의 관련 기업 재직자 우선 선발
교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공)
◦ 교육주최 : 경북대학교 산학협력선도대학(LINC)사업단, 반도체융합기술연구원(ISFT)
◦ 수강신청 및 교육문의
- 홈페이지 : www.necst.or.kr
- 전화 : 053-950-7931 / 053-940-8780
○ 교육일정
 일시 교육내용  세부내용 구분      
1일차
(10/14) 
10:00~13:00 
(3H) 
OLED 소자 제작 실습   OLED 소자 제작을 위한 패터닝 실습  실습
 13:00~14:00
(1H)
 점심식사
 14:00~17:00
(3H)
 고분자 OLED 소자 제작실습
 2일차
(10/15)
 10:00~13:00
(3H)
 투명 Flexible 디스플레이 기술 개발 현황
 투명 Flexible 디스플레이 소자 기술
: 패널 / 공정 / 인쇄전자
(문대규 교수-순천향대 디스플레이신소재공학부)                                     
이론 
13:00~14:00
(1H)
 점심식사
 14:00~17:00
(3H)
 투명 Flexible 디스플레이 소재 기술
: 기판 / 전극 
(김기현 박사-한국전자통신연구원)
 17:00~18:00
(1H)
 연구원 장비 소개
 반도체융합기술연구원 보유장비 소개
및 이용안내
 
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육비 : 무료 (교재 및 중식 제공)
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 본 교육과정은 경북대학교 산학협력선도대학(LINC)사업단의 후원으로 실시되며, 대구·경북 지역 소재의 관련 기업체 재직자를 우선적으로 선발합니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육 신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
2014 하반기 반도체정기입문교육
2014. 8. 25 ~ 2014. 8. 27
20명
IT대학 3호관 103호, 반도체융합연구동
일반-300,000원, 학생-200,000원

2014년 하반기 반도체정기입문교육

   

■ 교육개요

- 일 시 : 2014년 8월 25일(월) ~ 8월 27일(금)/ 3일, 22시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103호, 실습 - 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 20명 내외

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원(교육과정 80% 이상 출석시 수료증 발급)

■ 목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본교육

교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 등 확인

교육일정

 

1일차

(825)

(7H)

시간

1

2

공정명 - 장비명

공정명 - 장비명

10:00~11:00

반도체 실험실 안전교육 (모헌종 주임연구원) - IT3호관 103

11:00~12:00

12:00~13:00

반도체전공정비디오교육(이창호연구원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

Process integration (이창주연구원)

15:00~16:00

16:00~17:00

산화 및 증착공정이론 (이상원연구원)

PDS이론 (정동건연구원)

17:00~18:00

산화 및 증착공정실습 (김창희연구원)

PDS실습 (이창호연구원)

 

2일차

(826)

(8H)

시간

1

2

공정명 - 장비명

공정명 - 장비명

09:00~10:00

이온주입 공정교육 (정동건연구원)

10:00~11:00

11:00~12:00

사진공정이론 (이희호연구원)

산화 및 증착공정이론 (이상원연구원)

12:00~13:00

사진공정실습 (모헌종 주임연구원)

산화 및 증착공정실습 (김창희연구원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

식각공정이론 (박지섭연구원)

사진공정이론 (이희호연구원)

15:00~16:00

식각공정실습 (문상연 주임연구원)

사진공정실습 (모헌종 주임연구원)

16:00~17:00

배선공정이론 (이승진연구원)

식각공정이론 (박지섭연구원)

17:00~18:00

배선공정실습 (이창호연구원)

식각공정실습 (문상연연구원)

 

3일차

(827)

(7H)

시간

1

2

공정명 - 장비명

공정명 - 장비명

09:00~10:00

ALD 공정 (강희성연구원)

10:00~11:00

11:00~12:00

측정장비이론 (조영우연구원)-103

배선공정이론 (이승진연구원)

12:00~13:00

측정장비실습 (조영우연구원)

배선공정실습 (이창호연구원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~15:00

PDS이론 (정동건연구원)

측정장비이론 (조영우연구원)-103

15:00~16:00

PDS실습 (이창호연구원)

측정장비실습 (조영우연구원)

16:00~17:00

불량분석이론 (이승진 선임연구원)

주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 10인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261

                            (예금주:경북대학교 반도체융합기술연구원)
                 
* 교육비 카드 결제 불가능, 계산서 발급가능

* 문의처 : 053-950-7594  권민정 주무관(dtec02@ee.knu.ac.kr)


 
 
디스플레이 소자 기초이론 및 공정 실습 교육
2014. 7. 23(수) ~ 7. 25(금)
20명
경북대 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab
<학생>200,000원, <일반>300,000원

▶ 교육대상 : 디스플레이 관련 기업 재직자 및 취업, 전직 희망자

▶ 교육목표 : 디스플레이 기초이론 및 최신 기술 동향에 관한 이론 강의 제공, OLED 소자 제조공정 실습을 통한 공정 환경 및 기초 원리 이해, 기초 실무 기술력 향상


<<교육 세부 내용>>


1일차 : 7월 25일(수)

▣ 10:00~13:00 <디스플레이 소자 기초이론 1>
- 디스플레이 산업 및 기술 동향, 핵심 공정 기술(TFT-LCD 중심) (3시간)


▣ 14:00~17:00 <디스플레이 소자 기초이론 2>
- OLED 기술 이론, 차세대 디스플레이 개발 동향(Quantum dot LED 등)  (3시간)


2일차 : 7월 24일(목) 

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(OLED) 1>
- 고분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습, 고분자 OLED 증착 및 측정(6시간)


3일차 : 7월 25일(금)

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(OLED) 2>
- 저분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습, 저분자 OLED 증착 및 측정(6시간)


▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는 http://www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
고정밀 측정 및 분석기술 교육
2014. 4. 17(목) ~ 4. 18(금) 10:00~17:00
10명
경북대학교 IT대학 3호관 및 공동실험실습관
무료

생산공정기계 패키지 기업지원사업

"고정밀 측정 및 분석기술 교육"

 

◦ 과 정 명고정밀 측정 및 분석기술 교육

◦ 일 시 : 2014 4 17() ~ 4 18() (1 6시간, 2 12시간)

◦ 장 소 : 경북대학교 IT대학 3호관 103호 및 공동실험실습관

◦ 교육대상 : 10

 - 대구지역 생산공정기계 산업분야 기업 종사자, 임직원 등

 - 기타 고정밀 기계 응용기술 분야 측정 및 분석기술에 관심있는 재직자, 기업 임직원 등

※ “생산공정기계 패키지 기업지원사업” 참여기업 재직자에 우선적 수강 기회 제공 

 

◦ 교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공

◦ 수강신청 및 교육문의

- 전화 : 053-950-7931 / 053-950-7932

- E-mail : isft@ee.knu.ac.kr

 

○ 교육일정

일시

교육내용

강사

구분

장소

4/17

()

10:00~13:00

- 주사탐침현미경(SPM)/공초점레이저주사현미경(CLSM) 이론 및 분석 기법

홍태은 박사

(한국기초과학지원연구원)

이론

IT3

-103

14:00~17:00

- SEM/TEM 이론 및 분석 기법

민봉기 박사

(영남대 중앙기기센터)

4/18

()

10:00~13:00

- SPM/CLSM 장비운용 및 사례 실습

박석우 연구원

(경북대 공동실험실습관)

실습

공동

실험

실습관

14:00~17:00

- SEM/TEM 장비 운용 및 사례 실습

한용수 연구원

(경북대 공동실험실습관)

12시간 (이론 6시간, 실습 6시간)

실습시간 중 간단한 시료 및 샘플 소지 시 측정/분석 및 상담 가능

 

교육비무료(교재 및 중식 제공

 생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업체 소속 재직자에게 우선적 수강 기회 제공

▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다

▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.

▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(isft@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.

 
 
첨단 레이저 가공 및 장비활용 기술 교육
2014. 4. 11(금) 9:30~18:30
10명
경북대학교 IT대학 3호관 104호 및 레이저응용기술센터
무료

생산공정기계 패키지 기업지원사업

"첨단 레이저 가공 및 장비활용 기술 교육"

 

◦ 과 정 명첨단 레이저 가공 및 장비활용 기술 교육 

◦ 일 시 : 2014 4 11() 09:30~18:30 ( 1 8시간)

◦ 장 소 : 경북대학교 IT대학 3호관 104호 및 레이저응용기술센터

◦ 교육대상 : 10

 - 대구지역 생산공정기계 산업분야 기업 종사자, 임직원 등

 - 기타 레이저 기술 활용 가능한 모든 관련 업체 종사자, 기업 임직원 등

생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업 재직자에 우선적 수강 기회 제공 

 

◦ 교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공

◦ 수강신청 및 교육문의

- 전화 : 053-950-7931 / Fax : 053-950-7932

- E-mail : isft@ee.knu.ac.kr

 

○ 교육일정

일시

교육내용

강사

구분

장소

4/11

()

9:30~10:30

- 레이저 기초 광학

- 레이저 미세가공분야 최신 동향

윤홍식 차장

(송산이엔지)

이론

IT3-104

10:30~12:00

- 산업에서의 레이저 안전

이강수 소장(한빛레이저)

IT3-104

12:00~13:00

점 심 식 사

13:00~15:00

- 가공을 위한 레이저 기본원리 및 응용 가공기술

이강수 소장(한빛레이저)

이론

IT3-104

15:00~16:30

- 레이저 응용가공 사례

16:30~18:30

- 주요 레이저장비 활용 및 운용관리

이종훈 교수(경북대 레이저응용기술센터)

실습

GP-9

8시간 (이론 6시간, 실습 2시간)

교육비무료(교재 및 중식 제공

 생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업체 소속 재직자에게 우선적 수강 기회 제공

▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다

▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.

▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(isft@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.

 
 
2014 상반기 반도체정기입문교육(추가)
2014. 2. 17 ~ 2014. 2. 19
27명
IT대학 3호관 103호, 반도체융합연구동
학생 20만원
반도체정기입문교육(입실자교육)

   

■ 교육개요

- 일 시 : 2014년 2월 17일(월) ~ 2월 19일(수)/ 3일, 22시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103호, 실습 - 반도체융합연구동

- 교육대상 : 청정실 입실을 위한 반도체 전공 석사 신입생

- 모집인원 : 25명 내외

- 교 육 비 : 학생/20만원(교육과정 80% 이상 출석시 수료증 발급)


■ 목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본교육

교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 등 확인

교육일정

 

시간

1조

2조

공정명 - 장비명

공정명 - 장비명

1일차

17일
(7)

10:00~12:00

반도체 실험실 안전교육(모헌종주임) - IT3호관 103호

12:00~13:00

반도체 전공정 비디오 교육 (모헌종주임)

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

산화및증착공정 (이상원연구원)

PDS (정동건연구원)

16:00~18:00

사진공정 (이희호연구원)

산화및증착공정 (이상원연구원)

2일차

18일
(8)

09:00~11:00

식각공정 (박지섭연구원)

사진공정 (이희호연구원)

11:00~13:00

배선공정실습(sputter) (조영우연구원)

식각공정 (박지섭연구원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

측정장비 (김도균연구원)

배선공정실습(sputter) (조영우연구원)

16:00~18:00

PDS (정동건연구원)

측정장비 (김도균연구원)

3일차

19일
(7)

10:00~12:00

이온주입 공정교육 (정동건연구원)

12:00~13:00

점심식사

13:00~15:00

ALD 공정교육 (강희성연구원)

15:00~17:00

Process integration (이창주연구원)

17:00~18:00

총평 및 수료식

주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 10인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261

                            (예금주:경북대학교 반도체융합기술연구원)
                 
* 교육비 카드 결제 불가능, 계산서 발급가능

* 문의처 : 053-950-7594  권민정 주무관(dtec02@ee.knu.ac.kr)


 
 
2014 상반기 반도체정기입문교육
2014. 2. 19 ~ 2014. 2. 21
20명
IT대학 3호관 103호, 반도체융합연구동
일반-300,000원, 학생-200,000원

2014년 상반기 반도체정기입문교육

   

■ 교육개요

- 일 시 : 2014년 2월 19일(수) ~ 2월 21일(금)/ 3일, 22시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103호, 실습 - 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 20명 내외

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원(교육과정 80% 이상 출석시 수료증 발급)

■ 목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본교육

교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 등 확인

교육일정

 

시간

1조

2조

공정명 - 장비명

공정명 - 장비명

1일차

(7)

10:00~12:00

반도체 실험실 안전교육(모헌종주임) - IT3호관 103호

12:00~13:00

반도체 전공정 비디오 교육 (모헌종주임)

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

산화및증착공정 (이상원연구원)

PDS (정동건연구원)

16:00~18:00

사진공정 (이희호연구원)

산화및증착공정 (이상원연구원)

2일차

(8)

09:00~11:00

식각공정 (박지섭연구원)

사진공정 (이희호연구원)

11:00~13:00

배선공정실습(sputter) (조영우연구원)

식각공정 (박지섭연구원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

측정장비 (김도균연구원)

배선공정실습(sputter) (조영우연구원)

16:00~18:00

PDS (정동건연구원)

측정장비 (김도균연구원)

3일차

(7)

10:00~12:00

이온주입 공정교육 (정동건연구원)

12:00~13:00

점심식사

13:00~15:00

ALD 공정교육 (강희성연구원)

15:00~17:00

Process integration (이창주연구원)

17:00~18:00

총평 및 수료식

주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 10인 미만 신청시 폐강될 수 있음.

* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261

                            (예금주:경북대학교 반도체융합기술연구원)
                 
* 교육비 카드 결제 불가능, 계산서 발급가능

* 문의처 : 053-950-7594  권민정 주무관(dtec02@ee.knu.ac.kr)


 
 
생산공정기계 기술트랜드 분석 및 사업화 Skill up 교육
2014. 1. 17(금) 10:00~17:00
15명
경북대학교 IT대학 3호관 103호
무료(중식 및 교재 제공)

생산공정기계 패키지 기업지원사업

"생산공정기계 기술트랜드 분석 및 사업화 Skill up 교육"

 

◦ 과 정 명 : 생산공정기계 기술트랜드 분석 및 사업화 Skill up 교육 

◦ 일 시 : 2014년 1월 17일(금) 10:00~17:00 (총 1일 6시간)(당초14일->17일로 변경)

◦ 장 소 : 경북대학교 IT대학 3호관 103호


◦ 교육대상 : 15명

 - 대구지역 생산공정기계 산업분야 기업 종사자, 임직원 등

 - 기타 생산공정기계기술 활용 가능한 모든 관련 업체 종사자, 기업 임직원 등
※ “생산공정기계 패키지 기업지원사업” 참여기업 재직자에 우선적 수강 기회 제공 

◦ 교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공) 

◦ 수강신청 및 교육문의

- 홈페이지 : www.necst.or.kr

- 전화 : 053-950-7594 / 053-940-8780

- E-mail : dtec02@ee.knu.ac.kr

 

○ 교육일정

일시

교육내용

강사

장소

1/17(금)

10:00~11:00

생산공정기계의 개요

- 정의와 분류

- 탄생배경

- 필요성과 중요성

- 활용과 전망

정재훈 교수

(영진전문대학 컴퓨터응용기계

계열)

IT3-103호

11:00~12:00

생산공정기계의 개발방향

- 고속/고정밀화

- 단위모듈화

- 융복합화

- 지능화

- 고유연화

12:00~13:00

공작기계 및

가공 Unit/지그의 기술이해와 전망분석

- 전체 기구와 단위모듈 간의 관계 이해

- 단위모듈에 대한 발전 경향과 전망

13:00~14:00

점 심 식 사

교내식당

14:00~15:00

자동화 및 검사/평가 장비의 기술이해와 전망분석

- 공정 융합형 자동화

- 일괄 흐름식 자동화

- 비젼기술 응용 검사장비

조여욱 교수

(영진전문대학 컴퓨터응용기계

계열)

IT3-103호

15:00~16:00

생산공정기계의 사업화 현황과 문제점 분석

- 전용기와 범용기의 사업화 전략 구분

- 사업화를 위한 현주소

- 사업화 SWOT 분석

- 사업화 문제점 대처 방안

16:00~17:00

사업화를 위한 필수 추진전략

- 기술 트랜드와 연계한 사업화 전략

- 주요시장 분석을 통한 판매 최적화

- 사업화 중장기 로드맵 구축

- 기업에서의 사업화 기반을 위한 필수 요소

- 시장경쟁력 확보를 위한 순환 체계 확보

총 6시간 (이론)

교육비 : 무료(교재 및 중식 제공) 
▶ 생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업체 소속 재직자에게 우선적 수강 기회 제공
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다. 
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec02@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7594)로 연락 바랍니다.

 
 
반도체입문교육과정
2013.12.19-20
15
공대 7호관 402호, 반도체융합연구동
일반-25만원, 학생-20만원

반도체입문교육

 

 

■ 교육개요

- 일 시 : 2013년 12월 19일(목) ~ 12월 20일(금)/ 2일, 16시간과정

- 장 소 : 이론-공대7호관 402호, 실습 - 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 20명
- 교 육 비 : 일반-25만원, 학생-20만원(교육과정 80% 이상 출석시 수료증 발급)

■ 목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본교육

교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 실습을 통한 확인

교육일정 

 교육시간

교육내용

세부내용

1조

2조

1일차

(8H)

09:00~11:00

반도체 단위공정 (Ⅰ)

안전교육

(모헌종주임-ISFT)

11:00~13:00

process integration - 하종봉교수님(영진전문대학)

14:00~16:00

산화및증착공정실습

(이상원연구원)

PDS

(정동건연구원)

16:00~18:00

사진공정실습

(이희호연구원)

산화및증착공정실습

(이상원연구원)

2일차

(8H)

09:00~11:00

반도체 단위공정 (Ⅱ)

식각공정실습

(모헌종연구원)

사진공정실습

(이희호연구원)

11:00~13:00

배선공정실습(sputter)

(조영우연구원)

식각공정실습

(모헌종연구원)

14:00~16:00

측정장비실습

(김도균연구원)

배선공정실습(sputter)

(조영우연구원)

16:00~18:00

PDS

(정동건연구원)

측정장비실습

(김도균연구원)

  주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 10인 미만 신청시 폐강될 수 있음.


* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261 (예금주:경북대학교 반도체융합기술연구원)
                 
* 교육비 카드 결제 불가능, 계산서 발급가능

* 문의처 : 053-950-7594  권민정 주무관(dtec02@ee.knu.ac.kr)


* 팹 입실자는 해당교육과 무관함.(입실자 교육은 2월중 개설)




 
 
첨단 레이저 가공 및 장비활용 기술교육
2013. 12. 13(금) 9:30~18:30
10명
경북대학교 IT대학 3호관 103호 및 레이저응용기술센터 교육장
무료

◦ 교육대상 : 10

 - 대구지역 생산공정기계 산업분야 기업 종사자, 임직원 등

 - 기타 레이저 기술 활용 가능한 모든 관련 업체 종사자, 기업 임직원 등
※ 생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업 재직자에 우선적 수강 기회 제공 

 

◦ 교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공) 

◦ 수강신청 및 교육문의

- 홈페이지 : www.necst.or.kr

- 전화 : 053-950-7931 / 053-940-8780

- E-mail : dtec01@ee.knu.ac.kr

 

○ 교육일정

일시

교육내용

강사

구분

장소

12/13

(금)

9:30~10:30

- 레이저 기초 광학

- 레이저 미세가공분야 최신 동향

모헌종 주임연구원
(경북대 ISFT)

이론

IT3-103

10:30~12:00

- 산업에서의 레이저 안전

이강수 소장
(한빛레이저)

IT3-103

12:00~13:00

점 심 식 사

교내식당

13:00~15:00

- 가공을 위한 레이저 기본원리 및 응용 가공기술

이강수 소장
(한빛레이저)

이론

IT3-103

15:00~16:30

- 레이저 응용가공 사례

16:30~18:30

- 주요 레이저장비 활용 및 운용관리

모헌종 주임연구원
(경북대 ISFT)

실습

GP-9층

총 8시간 (이론 6시간, 실습 2시간)

생산공정기계 패키지 기업지원사업

"첨단 레이저 가공 및 장비활용 기술 교육"



◦ 과 정 명 : 첨단 레이저 가공 및 장비활용 기술 교육



◦ 일 시 : 2013년 12월 13일(금) 09:30~18:30 (총 1일 8시간)



◦ 장 소 : 경북대학교 IT대학 3호관 103호 및 레이저응용기술센터



◦ 교육대상 : 10명

- 대구지역 생산공정기계 산업분야 기업 종사자, 임직원 등

- 기타 레이저 기술 활용 가능한 모든 관련 업체 종사자, 기업 임직원 등
※ 생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업 재직자에 우선적 수강 기회 제공



◦ 교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공)



◦ 수강신청 및 교육문의

- 홈페이지 : www.necst.or.kr

- 전화 : 053-950-7931 / 053-940-8780

- E-mail : dtec01@ee.knu.ac.kr



○ 교육일정

일시
교육내용
강사
구분
장소

12/13

(금)
9:30~10:30
- 레이저 기초 광학

- 레이저 미세가공분야 최신 동향
모헌종 주임연구원
(경북대 ISFT)
이론
IT3-103

10:30~12:00
- 산업에서의 레이저 안전
이강수 소장
(한빛레이저)
IT3-103

12:00~13:00
점 심 식 사
교내식당

13:00~15:00
- 가공을 위한 레이저 기본원리 및 응용 가공기술
이강수 소장
(한빛레이저)
이론
IT3-103

15:00~16:30
- 레이저 응용가공 사례

16:30~18:30
- 주요 레이저장비 활용 및 운용관리
모헌종 주임연구원
(경북대 ISFT)
실습
GP-9층

총 8시간 (이론 6시간, 실습 2시간)



▶ 교육비 : 무료(교재 및 중식 제공)
▶ 생산공정기계 패키지 기업지원사업 참여기업체 소속 재직자에게 우선적 수강 기회 제공
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.

 
 
반도체 소자 TCAD Simulation 기초과정
2013.11.21(목), 11.28(목)
15명
IT대학 2호관 210호
일반 250,000원, 학생 200,000원

반도체 소자 TCAD Simulation 기초과정

 

■ 교육개요

- 일 시 : 2013년 11월 21일(목), 28일(목) 2일, 14시간 과정

- 장 소 : IT대학 2호관 210호

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 15명

- 교 육 비 : 일반-25만원, 학생-20만원

교육내용 : TCAD 및 Linux 기본 사용법을 숙지한 후 TCAD를 활용한 실습(실바코 tool 사용)

교육일정

 

 

시간

제목

세부내용

강사

장소

1일차

(21일/7h)

10:00~11:00

실바코 툴 설명(실습)

1. 리눅스 설치 및 리눅스 명령어 사용법

2. 실바코 툴 종류

3. 툴의 연관성 설명

4. 적용 가능한 분야 설명 및 매뉴얼 사용법 익히기

서재화연구원(경북대)

IT대학2호관 210호

 

11:00~12:00

12:00~13:00

14:00~15:00

반도체

디바이스 예제수행

1. 기본적 구성과 동작 원리

2. 간단한 예제수행

- Atlas, Athena, Device Editor, TonyPlot

서재화연구원(경북대)

(교육조교1명)

(경북대)

15:00~16:00

16:00~17:00

17:00~18:00

2일차

(28일/7h)

10:00~11:00

실바코

시뮬레이션 실습

1. Input 파일 작성 (Deckbuild)

2. Process simulation (Athena)

탁남균차장(주.실바코코리아)

IT대학2호관 210호

11:00~12:00

12:00~13:00

14:00~15:00

3. Device simulation (Atlas)

4. 결과 분석 (Tonyplot)

5. 질의응답

15:00~16:00

16:00~17:00

17:00~18:00

주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 교육생 10명 미만시 폐강될수있음.


* 교육문의 : 사업운영팀 권민정(053-950-7594)

* 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261 (경북대학교 반도체융합기술연구원)

* 교육비 계산서 발급 가능(카드 결제 불가)

 
 
디스플레이 소자 기초이론 및 공정 실습 교육
2013. 11. 6(수) ~ 11. 8(금)
20명
경북대 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab
<학생>200,000원, <일반>300,000원
▶ 교육대상 : 디스플레이 관련 기업 재직자 및 취업, 전직 희망자

▶ 교육목표 : 디스플레이 기초이론 및 최신 기술 동향에 관한 이론 강의 제공, OLED 소자 제조공정 실습을 통한 공정 환경 및 기초 원리 이해, 기초 실무 기술력 향상


<<교육 세부 내용>>


1일차 : 11월 6일(수)

▣ 10:00~13:00 <디스플레이 소자 기초이론 1>
- 디스플레이 핵심 공정 기술, TFT-LCD/OLED/Flexible Display 공정기술 (3시간)


▣ 14:00~17:00 <OLED 소자 제작 실습 1>
- 저분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습 (3시간)
 


2일차 : 11월 7일(목) 

▣ 10:00~17:00 <디스플레이 소자 제작 실습(OLED) 2>
- 저분자 OLED 증착 및 측정, 고분자 OLED를 위한 ITO Patterning 실습(6시간)


3일차 : 11월 8일(금)

▣ 10:00~13:00 <디스플레이 소자 기초이론 2>
- 디스플레이 산업 및 기술 동향, 차세대 디스플레이 개발 동향 (3시간)


▣ 14:00~17:00 <OLED 소자 제작 실습 3>
- 고분자 OLED 증착 및 측정 실습 (3시간)
▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-964261(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는 http://www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.
 
 
나노 임프린팅 기술 및 응용실습 교육과정
2013년 10월 14일(월) ~ 15일(화)
20명
경북대 IT대학 3호관 103호 및 지하 Fab 등
무료 (교재 및 중식 제공)
◦ 과 정 명 : 나노 임프린팅 기술 및 응용실습 교육과정
◦ 교육일자 : 2013년 10월 14일(월) ~ 15(화) 
◦ 교육시간 : 09:00~18:00 
◦ 장 소 : 경북대학교 IT대학 3호관 103호 및 지하Fab 등 
◦ 교육대상 : 20명
 - 임프린팅 공정 관련 기업체 재직자 
 - 임프린팅 관련 연구 수행자 등
 - 대구, 경북 지역 소재의 관련 기업 재직자 우선 선발 
교 육 비 : 무료 (교재 및 중식 제공)
◦ 교육주최 : 경북대학교 산학협력선도대학(LINC)사업단
◦ 교육실시 : 경북대학교 반도체융합기술연구원

◦ 수강신청 및 교육문의
- 홈페이지 : www.necst.or.kr
- 전화 : 053-950-7931 / 053-940-8780
 
○ 교육일정

일시

교육내용

세부내용

구분

책임강사

1조

2조

1일차

(10/14)

09:00~12:00

나노 임프린팅 기술 이론

- 김학린 교수

(경북대 전자공학부)

나노 임프린팅 기술 : 공법·장비별 이론, 적용 소재별 특성(장기 신뢰성 이슈 포함) 등

(정명영 교수 - 부산대학교)<3H>

이론

12:00~13:00

점 심 시 간

13:00~16:00

반도체 및 3D 패키징 기술

(이원오 대표 - 에스팩솔루션)<3H>

16:00~17:00

센터장비소개

반도체융합기술연구원 보유 장비소개 및 이용안내<1H>

2일차

(10/15)

09:00~13:00

유연 몰드 (Soft Mold)

제작 실습

- 김학린 교수

(경북대 전자공학부)

패터닝 실습(PR)

(교육조교 2명)

몰드 제작 및 임프린팅 실습(UV)

(교육조교 2명)

실습

13:00~14:00

점 심 시간

14:00~18:00

몰드 제작 및 임프린팅 실습(UV)

(교육조교 2명)

패터닝 실습(PR)

(교육조교 2명)

▶ 교육과정의 80% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육비 : 무료 (교재 및 중식 제공)
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 본 교육과정은 경북대학교 산학협력선도대학(LINC)사업단의 후원으로 실시되며, 대구·경북 지역 소재의 관련 기업체 재직자를 우선적으로 선발합니다.
▶ 온라인 수강신청 시에는www.necst.or.kr 홈페이지에서 교육 신청을 하신 후 전화로 등록확인(053-950-7931/053-940-8780)을 해주시면 됩니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍니다.

 
 
하반기 반도체정기입문교육
2013.8.26-8.28
23명
IT대학 3호관 103호, 반도체융합연구동
일반 300,000원/학생 200,000원

2013년 하반기 반도체정기입문교육



■ 교육개요

- 일 시 : 2013년 8월 26일(월) ~ 8월 28일(수)/ 3일, 22시간과정

- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103호, 실습 - 반도체융합연구동

- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생

- 모집인원 : 20명 내외

- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원 

■ 목 적 : 반도체 단위공정에 대한 기본교육

교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 실습을 통한 확인

교육일정

 

시간

1조

2조

공정명 - 장비명

공정명 - 장비명

1일차

(7)

10:00~12:00

반도체 실험실 안전교육(문상연주임) - IT3호관 103호

12:00~13:00

반도체 전공정 비디오 교육 (문상연주임)

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

산화및증착공정실습
(이상원연구원)

PDS (정동건연구원)

16:00~18:00

사진공정실습
(이희호연구원)

산화및증착공정실습
 (이상원연구원)

2일차

(8)

09:00~11:00

식각공정실습 (박경우연구원)

사진공정실습
 (이희호연구원)

11:00~13:00

배선공정실습(sputter)
(조영우연구원)

식각공정실습 (박경우연구원)

13:00~14:00

점심식사

14:00~16:00

측정장비실습 (이창주연구원)

배선공정실습(sputter)
(조영우연구원)

16:00~18:00

PDS (정동건연구원)

측정장비실습 (이창주연구원)

3일차

(7)

10:00~12:00

이온주입 공정교육 (정동건 연구원)

12:00~13:00

점심식사

13:00~15:00

ALD 공정교육 (강희성연구원)

15:00~17:00

Process integration (이창주연구원)

17:00~18:00

총평 및 수료식

주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 10인 미만 신청시 폐강될 수 있음.


* 교육문의 : 사업운영팀 권민정(053-950-7594, dtec02@ee.knu.ac.kr)

* 교육비 입금계좌 : 100-025-964261 신한은행(경북대학교 반도체융합기술연구원)

* 계산서 발행가능, 카드 결제 불가능

 

 
 
반도체핵심공정실습교육
2013.7.24-7.26
13명
IT대학 3호관 104호, 반도체융합연구동
일반 300,000원/학생 200,000원

반도체핵심공정실습교육





■ 교육개요